建立对器件工作原理的直观理解
介绍基本器件方程
分析二阶效应以及深亚微米效应
二极管是数字IC中的寄生元件。每个MOS管都内含有 一定数量的反向偏置二极管 ,他们直接影响着器件的行为。
二极管也用来保护IC的输入器件以抗静电荷。
需要着重掌握 二极管在反向偏置模式 下的工作。
二极管
左图:线性坐标 ,右图:对数坐标
实际器件中的反向电流远远超过反向饱和电流
当
在反向偏置区域,结电容相对较小
其中:
m 称为梯度系数,事实上集成电路中的 PNJ 往往是线性结
对于 突变结:
对于 线性结:
二阶模型:引入中性区域的电阻和结电容
加上
在饱和区中,从 夹断点到源端 的导电沟道电压差保持为
速度饱和发生时的临界水平电场强度取决于 掺杂浓度 和外加的 垂直电场强度 。
考虑速度饱和,速度不再简单等于迁移率与电场的乘积。
速度饱和对 PMOS 器件的影响比 NMOS 器件小,因为空穴的迁移率低,临界电场更大。
线性区:
饱和区:
对于短沟道器件,在足够大的
因此:
器件在
所以短沟道器件在实际工作中 更常处于饱和区
饱和电流对
A Unified Model for Manual Analysis 用于手工分析的统一模型
NMOS 参数组全是正值,PMOS 参数组全是负值。
晶体管视为一个具有 等效导通电阻 的开关。
等效电阻定义
进一步写成:
t1、t2接近时,可以近似:
积分运算的结果与直接两端求算术平均的结果仅仅只有一个系数不同
当
当
其中: